H94-35型4″双面光刻机
- 品牌： SVC
- 型号： H94-35型
- 市场价： 元
- 优惠价： 元 (已有 0 人购买)
|
主要用途： 主要用于中小规模集成电路、半导体元器件、光电子器件、声表面波器件、薄膜电路的研制和生产。 工作方式： 本机采用版—版对准双面同时曝光方式，亦可用于单面曝光。 主要构成： 主要由高精度对准工作台、Z轴升降机构、双视场CCD显微显示系统)、二台多点光源蝇眼式曝光头、真空管路系统、气路系统、直联式真空泵、防震工作台等组成。 |
CCD显微系统|X、Y、Q对准工作台|Z轴升降机构 |
主要功能特点
1.适用范围广
适用于φ100mm以下，厚度5mm以下的各种基片(包括非圆形基片)的对准曝光。
2.结构先进
Z轴采用滚珠直进式导轨和可实现硬接触、软接触、微力接触的真空密着机构，真空吸版，防粘片机构。
3.操作简便
X、Y移动、Q转、Z轴升降采用手动方式；吸版、反吹采用按钮方式，操作、调试、维护、修理都非常简便。
4.可靠性高
采用进口电磁阀、按钮、定时器；采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的零件加工，使本机具有非常高的可靠性。
主要技术指标
◆曝光类型：单面对准双面一次曝光；
◆曝光面积：≥φ115mm；
◆曝光不均匀性：φ100mm内≤±3%；
◆曝光强度：≥20mw/cm2（365nm; 404nm; 435nm的组合紫外光）；
◆曝光分辨率：≤1μm；
◆曝光模式：双面同时曝光；
◆对准精度：上版与下版的对准精度≤±3μm；
◆对准范围：X：±5mm Y：±5mm；
◆旋转范围：Q向旋转调节≥±5°；
◆最大升降：≥20mm；
◆密着曝光方式：密着曝光可实现硬接触、软接触和微力接触曝光；
◆显微系统：双视场CCD系统，显微镜60X～400X连续变倍（物镜1.5X～10X)
显微镜扫描范围：X：±40mm ， Y：±35mm；双物镜距离可调范围：25mm～150 mm，计算机图像处理系统，19″液晶监视器；
◆掩模版尺寸：3″×3″、4″×4″、5″×5″；
◆基片尺寸：φ2″、φ3″、φ4″；
◆基片厚度：≤5 mm
◆曝光灯功率：直流2×350W；
◆曝光定时：0～999.9秒可调；
◆电源：单相AC220V 50HZ ，功耗≤1.5KW；
◆洁净压缩空气压力：≥0.4MPa；
◆真空度：-0.07MPa~-0.09MPa；
◆尺寸： 985mm（长）×680mm（宽）×1800mm（高）；
◆重量：约180Kg。
